残留量＜0.1µL 革新的な洗浄方式を採用したプレートウォッシャー
C.WASHは、針やピペットチップを使用せず、遠心力を用いることで、複雑な洗浄タスクを非接触方式で行い、マイクロプレートを自動的に再現性高く洗浄することが可能になります。
細胞の非接触洗浄、ELISAアッセイ、およびビーズベースのDNA精製でマイクロウェルプレートの洗浄に使用できます。
特長
- 比類のない洗浄効率
C.WASHは洗浄効率は残留量が<0.1uL /ウェルで、必要な洗浄サイクルの数を大幅に減らし、より高速で再現性の高いアッセイを実現します。
- 非接触洗浄
ピペットチップを使用しないため、コストを抑えながら、細胞の損傷や相互汚染のリスクを軽減します。
- 高速、自動
96ウェル、384ウェル、1536ウェルのプレート全体を数秒で完全に自動洗浄します。
→C.WASHのプレート洗浄は、結果の再現性を向上させ、コストを削減し、タイムラインを短縮し、全体的なアッセイ効率を最大化します。
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